В Лаборатории работы по лазерному напылению тонких пленок ведутся с 1987 года.
За это время разработано и изготовлено технологическое оборудование, на котором успешно
развиты технологии напыления таких материалов, как полупроводников (InGaAs, PbTe, ZnO)
и сложных окислов (YBCO, SrTiO3, ZrO2:CeO2,
SrBaTiO3), квантоворазмерных плёнок Bi и Ta, металлов.
Всесторонне исследован
эрозионный факел при абляции ультрафиолетовыми эксимерными лазерами в процессе
лазерно-плазменного напыления, изучены условия управления энергетическим спектром
эрозионного факела в процессе лазерно-плазменного напыления пленок, что оказывает
решающее влияние на условия создания сверхтонких пленок и их структурные характеристики.
Лаборатория тесно сотрудничает с такими институтами, как
Институт радиотехники и электроники РАН (ИРЭ РАН),
Московский государственный институт стали и сплавов (технологический университет) (МИСиС),
Физический институт им.П.Н.Лебедева РАН (ФИАН),
Зарубежный партнер -
Institute for Semiconductor Technology and Microsystems,
Dresden University of Technology (IHM TU Dresden)