Разработаны технологии лазерного напыления тонких пленок из следующих материалов:
ВТСП пленки, GaAs, InGaAs, PbTe, Bi, ZrO2, SrTiO3, ZnO и
алмазоподобные пленки.
Созданы лазерные напылительные комплексы, оснащенные системой компьютерного контроля
и управления процессом импульсного лазерно-плазменного осаждения пленок.
Разработаны технологии напыления ВТСП пленок из металлов, полупроводников и
диэлектриков - базовых структур элементов оптоэлектроники и микроэлектроники.